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Internationales Journal für Parodontologie & Restaurative Zahnheilkunde
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Int J Paro Rest ZHK 30 (2010), Nr. 4     2. Sep. 2010
Int J Paro Rest ZHK 30 (2010), Nr. 4  (02.09.2010)

Seite 323-331


Überlegungen zur Implantatabutment- und Kronenkontur: Kritische und subkritische Kontur
Su, Huan / González-Martín, Oscar / Weisgold, Arnold / Lee, Ernesto
Adäquat konturierte Implantatversorgungen müssen einen Übergang vom zirkulären Design des Implantatkopfs zur korrekten zervikalen Zahnanatomie bieten. Das Implantatabutment kann dazu genutzt werden, diesen Übergang zu herzustellen. Eine Voraussetzung dafür ist, dass genügend Spielraum vorhanden ist. Implantatversorgungen werden als überkonturiert, flach und unterkonturiert beschrieben. Es hat sich gezeigt, dass eine Überkonturierung meist eine apikale Positionierung des Gingivarands zur Folge hat und eine Unterkonturierung den gegenteiligen Effekt. Allerdings werden diese Begriffe willkürlich verwendet und es gibt keine genauen Definitionen. Zusätzlich muss das Konzept der "Kontur", wie es ursprünglich von den zahngetragenen Restaurationen übernommen wurde, für die Dentalimplantologie neu definiert werden. Zwei unterschiedliche Bereiche im Implantatabutment und der Krone werden als kritische bzw. als subkritische Kontur bezeichnet. Jede Veränderung der kritischen oder subkritischen Kontur kann das Weichgewebeprofil modifizieren. In diesem Artikel werden die Auswirkungen von Modifizierungen der Abutmentkontur in diesen Bereichen auf das periimplantäre Weichgewebe diskutiert. Das betrifft unter anderem das Niveau des Gingivarands, die Höhe der Papillen, die gingivale Architektur, das labiale Profil des Alveolarkamms und die Farbe der Gingiva.
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